यू. एल. वी. ए. सी. और एस. ए. एल. ने बड़े पैमाने पर थिन-फिल्म लिथियम नियोबेट निर्माण के लिए प्लाज्मा इचिंग विकसित करने के लिए साझेदारी की। ULVAC and SAL partner to develop plasma etching for large-scale thin-film lithium niobate manufacturing.

यू. एल. वी. ए. सी. और सिलिकॉन ऑस्ट्रिया लैब्स (एस. ए. एल.) ने बड़े पैमाने पर थिन-फिल्म लिथियम नियोबेट (टी. एफ. एल. एन.) के निर्माण के लिए प्लाज्मा इचिंग प्रक्रियाओं को विकसित करने के लिए मिलकर काम किया है। ULVAC and Silicon Austria Labs (SAL) have teamed up to develop plasma etching processes for manufacturing thin-film lithium niobate (TFLN) on a large scale. यह सामग्री अपनी उच्च दक्षता और कम हानि के कारण उन्नत ऑप्टिकल उपकरणों के लिए महत्वपूर्ण है। This material is crucial for advanced optical devices due to its high efficiency and low loss. यू. एल. वी. ए. सी. की प्लाज्मा इचिंग प्रणाली का उपयोग करते हुए, साझेदारी का उद्देश्य टी. एफ. एल. एन. के एकीकरण और मापनीयता में सुधार करना है, जिससे उच्च डेटा संचार मात्रा की बढ़ती मांग को संबोधित किया जा सके। Using ULVAC's plasma etching system, the partnership aims to improve TFLN's integration and scalability, addressing the increasing demand for higher data communication volumes.