चीन के एस. एम. आई. सी. ने 7एन. एम. चिप्स के लिए स्वदेशी गहरी यू. वी. लिथोग्राफी मशीन का परीक्षण किया, जिसका उद्देश्य यू. एस. और डच तकनीक पर निर्भरता में कटौती करना है। China's SMIC tests homegrown deep UV lithography machine for 7nm chips, aiming to cut reliance on U.S. and Dutch tech.

चीन का एस. एम. आई. सी. शंघाई स्टार्टअप यूलियांगशेंग द्वारा विकसित अपनी पहली घरेलू रूप से निर्मित गहरी पराबैंगनी लिथोग्राफी मशीन का परीक्षण कर रहा है, जो अर्धचालक निर्माण में आत्मनिर्भरता की दिशा में प्रगति को चिह्नित करता है। China's SMIC is testing its first domestically built deep ultraviolet lithography machine, developed by Shanghai startup Yuliangsheng, marking progress toward self-reliance in semiconductor manufacturing. मशीन का उद्देश्य 7एनएम उत्पादन का समर्थन करना और संभावित रूप से 5एनएम तक बढ़ाना है, हालांकि संरेखण चुनौतियों के कारण उपज दर कम रहती है। The machine aims to support 7nm production and potentially scale to 5nm, though yield rates remain low due to alignment challenges. यह प्रयास, ए. आई. फर्मों की बढ़ती घरेलू मांग और इन-हाउस तकनीक के लिए सरकार के दबाव से प्रेरित है, जो चल रहे अमेरिकी निर्यात प्रतिबंधों के बीच विदेशी उपकरणों, विशेष रूप से ए. एस. एम. एल. पर निर्भरता को कम करने का प्रयास करता है। This effort, driven by rising domestic demand from AI firms and government push for in-house tech, seeks to reduce dependence on foreign equipment, particularly from ASML, amid ongoing U.S. export restrictions.