चीन ने वैश्विक प्रतिबंधों के बीच चिप स्वतंत्रता को आगे बढ़ाते हुए प्रोटोटाइप ई. यू. वी. लिथोग्राफी मशीन का निर्माण किया है। China builds prototype EUV lithography machine, advancing chip independence amid global restrictions.

2025 की शुरुआत में, शेनझेन में चीनी शोधकर्ताओं ने एक प्रोटोटाइप चरम पराबैंगनी (ई. यू. वी.) लिथोग्राफी मशीन को पूरा किया, जो डच कंपनी ए. एस. एम. एल. की तकनीक को रिवर्स-इंजीनियरिंग करके उन्नत अर्धचालक चिप्स के उत्पादन में एक महत्वपूर्ण कदम था। In early 2025, Chinese researchers in Shenzhen completed a prototype extreme ultraviolet (EUV) lithography machine, a key step in producing advanced semiconductor chips, by reverse-engineering Dutch company ASML’s technology. पूर्व ए. एस. एम. एल. इंजीनियरों द्वारा निर्मित, मशीन ई. यू. वी. प्रकाश उत्पन्न करती है और एक कारखाने के फर्श पर काम करती है लेकिन अभी तक काम करने वाले चिप्स का उत्पादन नहीं किया है। Built by former ASML engineers, the machine generates EUV light and operates on a factory floor but has not yet produced working chips. परियोजना, राष्ट्रपति शी जिनपिंग के सलाहकार डिंग ज़ुएक्सियांग के नेतृत्व में छह साल के राष्ट्रीय प्रयास का हिस्सा है और इसमें हुआवेई और राज्य प्रयोगशालाएं शामिल हैं, जिसका उद्देश्य अमेरिका और डच निर्यात नियंत्रणों के बीच अर्धचालक आत्मनिर्भरता प्राप्त करना है। The project, part of a six-year national effort led by President Xi Jinping’s advisor Ding Xuexiang and involving Huawei and state labs, aims to achieve semiconductor self-sufficiency amid U.S. and Dutch export controls. जबकि चीन अभी भी बड़ी तकनीकी चुनौतियों का सामना कर रहा है, विशेष रूप से सटीक घटकों में, सफलता से पता चलता है कि प्रगति एक दशक लंबी समयरेखा के पहले के अनुमानों की तुलना में तेज हो सकती है, कुछ विशेषज्ञों ने अब 2030 तक एक कार्यशील चिप का अनुमान लगाया है। While China still faces major technical challenges, particularly in precision components, the breakthrough suggests progress may be faster than earlier estimates of a decade-long timeline, with some experts now projecting a working chip by 2030.